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产品详细页产品介绍
技术指标及设备参数:
光源: 405nm(其他波段可定制)
最小打印层高: 10μm
沉积平台温控范围: RT-50℃(其他温度可定制)
墨水料槽温控范围: RT-50℃(其他温度可定制)
打印样品尺寸: 48mm(L)×27mm(W)×50mm(H)
墨水料槽容量: 50μl-10ml(其他体积可定制)
洁净无菌系统: 正压过滤、紫外灭菌
操作系统: 脱机打印、桌面打印
可打印材料: 柔性材料:GelMA、PEGDA水凝胶等;刚性材料:光敏树脂等
利用数字光处理技术(DLP)的光学3D打印方法受到了广泛的关注。其打印过程本质上是一种光化学材料合成过程,包括以动态光源为能量输入、以机械打印平台为反应容器和以光固化前驱体为反应混合物。与传统挤出式3D打印技术不同,光学3D打印基于液态前体中的光化学合成反应,具有打印速度快、精度高、打印条件温和等优势。